Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://dspace.msu.edu.ua:8080/jspui/handle/123456789/5237
Назва: Concentration profiles of elements and structure of a-Si1-xNx:H films
Автори: Gerasimov, Vitaliy
Герасимов, Віталій Вікторович
Mitsa, Vladimir
Мица, Володимир
Дата публікації: 1997
Видавництво: Fizika A
Короткий огляд (реферат): SIMS profiles of a-Si1-xNx:H films having different composition have been measured. The distribution of hydrogen in nitrided films bears a fluctuating character and its whole content decreases at x < 0.06. In all films, Na impurity is observed and its content on the film surface exceeds that of all other components. In the region of small contents of nitrogen, the position of the absorption edge in a-Si1-xNx:H films does not change with respect to its position in a-Si:H. According to the analysis of IR spectra of a-Si1-xNx:H near Si-N bonds, different surroundings are realized.
Опис: Gerasimov V. Concentration profiles of elements and structure of a-Si1-xNx:H films / V. Gerasimov, V. Mitsa // Fizika A, 1997. - vol. 6. - Issue 1. - С. 61-66
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://dspace.msu.edu.ua:8080/jspui/handle/123456789/5237
Розташовується у зібраннях:Статті

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
Concentration_profiles_of_elements_and_structure_of_a-Si1-xNxH_films.pdfConcentration profiles of elements and structure of a-Si1-xNx:H films503.01 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.